随着高市早苗近期言论进一步加剧中日关系紧张，传闻称东京已加强对晶圆生产至关重要的光刻剂出口管控，这引发了对中国芯片产量的新担忧，商业时报报道。
《商业时报》指出，日本控制了全球超过70%的光刻胶市场，以及高达95%的高端极紫外光阻胶。与此同时，中国光刻胶产业虽然起步晚了二十年，但依然挣扎：据anue统计，2022年高端光刻胶的本地生产率不到5%。
《商业时报》进一步解释，中国只能满足其110–180纳米芯片制造中使用的KrF DUV抗蚀剂需求的约5%。报告补充说，对于ArF抗药——7–65纳米生产所需——中国几乎完全依赖日本供应商。
可能涉及的公司
多家日本公司被指控与对华出口限制有关。《商业时报》报道，新越化学和东京大冈工业合计控制了约80%的全球市场份额，已暂停向部分中国晶圆厂发货ArF光刻胶。然而，据据报道引用的业内人士也认为，这些传闻可能始于新越铁因克朗产能有限，限制供应给中国小型晶圆厂——尽管东京并未正式出口禁令，但引发了各种猜测。
《亚洲时报》报道，大约在11月中旬，中国社交媒体上未经证实的说法显示佳能、尼康和三桥化学已停止光刻胶发货。然而，这些说法值得怀疑：报道指出，佳能和尼康实际上生产光刻机和零件，而三菱化学只供应光刻胶原料Lithomax。
如果属实，谣言可能会引起强烈影响。《商业时报》指出，高端光刻胶的使用寿命仅为三到六个月，几乎无法囤积。如果没有稳定供应，中国主要铸造厂可能会减少产量，甚至完全停止生产。2021年，新越交通的一次临时停摆据报道使中芯电效率下降了约20%。
中国的对策
为应对可能的制裁，中国一直在加强其光刻胶能力。《亚洲时报》报道，虽然进口量仍领先，但据阿努埃介绍，该国目标到2026年生产40%的自有抗染剂——较2024年约10%的本地化率有所提升。报道补充说，科华已开发出适用于45nm芯片的KrF电阻，北京大学团队也提升了光阻稳定性，逐步将应用范围从28nm扩展到更先进的节点。
与此同时，《商业时报》报道，北京于10月推出了首个EUV光刻胶测试标准，以制定更清晰的技术框架。报告补充称，政府还在引导国家半导体基金第二阶段优先发展光刻胶及其他关键材料，同时推动国内晶圆厂优先选择合格的本地供应商。
